한국인 「일본 VS한국의 반도체 전쟁‥한국에 승산은 없었다‥」일·미는 보조금 20조원 투자, 한국 1.2조원 한국의 반응
일본 8조vs한국 1.2조···반도체 전쟁, 게임이 되지 않는다
일·미는 보조금이 자꾸자꾸··䞐조원 투자, 일본 8조원, 한국 1.2조원
미국·일본을 시작으로 하는 세계 주요국이 대규모 투자에 대한 인센티브 경쟁이 뜨거운, 그러나, 한국 정부의 반도체 투자 인센티브는, 미국의22%, 일본의15% 수준에 그치고 있는 것을 알았다.
15일, 한국 반도체 산업 협회가 산출한 「국별 투자 인센티브 자료」를 입수해 분석한 결과, 첨단 반도체 생산 시설의 구축에 투입하는 돈을 20조원으로 가정했을 경우, 한국에 투자한 기업이 받는 투자 인센티브는 1조 2000억원인 것을 알았다.
한편, 같은 조건을 적용했을 때, 미국, 일본에 투자한 기업이 받는 인센티브는, 보조금과 세제 우대를 맞추어 각각 5조 5000억원, 8조원에 이르렀다. 한국에서(보다) 대략 4.6배, 6.7배도 큰 것이다.
이러한 인센티브 분석은 일·미·한 3개국의 반도체 관련 법안을 토대로 산출했다. 신규 반도체 파브(fab· 반도체 생산 시설) 투자금 20조원 가운데, 부지·건물에 6조원, 인프라 설비 4조원, 공정 장비 10조원이 소요되면 가정했다. 작년말, 한국에서 종료한 조세 특례 제한법에 따르는 임시 투자 세액공제는 고려하지 않았다.
현재, 한국의 투자 인센티브는15%의 설비 투자 세액공제만 존재한다. 반도체 제조에 빠뜨릴 수 없는 클린 룸을 시작으로 하는 인프라 설비 투자는 공제 대상도 안 된다. 이 때문에, 20조원의 투자금 중 인프라 설비와 부지·건물 비용 10조원을 제외해야 한다. 결국, 반도체 장비 10조원의15%에 해당되는 1조 5000억원 분의 세제 우대만이 제공된다.
이것마저도 한층 더 깎아진다. 농어촌 특별 세법에 따라 조세 감면을 받는 내국 법인은, 조세 절감액수의20% 상당액을 농어촌 특별세로서 납부해야 한다. 해당 금액의 3000억원을 제외하면, 최종 인센티브는 1조 2000억원으로 감소한다.인센티브 규모가 총투자액의6% 수준에 지나지 않는 것이다.
한편, 미국은 직접 보조금(투자액의515%)과 설비 투자 세액공제(투자액의25%)를 합해 5조 5000억원에 이른다. 투자 총액의 27.5%를 인센티브로 해서 받는다.
일본에서는 직접 보조금(투자액의 최대50%)만으로 8조원에 임박한다. 이것에 일본 정부가 현재 추진중의 「전략 분야 국내 생산 촉진 세제」의 설비 투자 세액공제액수(투자액의20%) 2조 8000억원까지 맞추면 인센티브는 10조 8000억원에 증가한다. 투자액의 반이상(54%)이 인센티브다.
韓国人「日本VS韓国の半導体戦争‥韓国に勝ち目は無かった‥」日米は補助金20兆ウォン投資、韓国1.2兆ウォン 韓国の反応
日本8兆vs韓国1.2兆···半導体戦争、ゲームにならない
日米は補助金がどんどん···20兆ウォン投資、日本8兆ウォン、韓国1.2兆ウォン
米国·日本をはじめとする世界主要国が大規模投資に対するインセンティブ競争が熱い、しかし、韓国政府の半導体投資インセンティブは、米国の22%、日本の15%水準に止まっていることが分かった。
15日、韓国半導体産業協会が算出した「国別投資インセンティブ資料」を入手して分析した結果、先端半導体生産施設の構築に投入するお金を20兆ウォンと仮定した場合、韓国に投資した企業が受ける投資インセンティブは1兆2000億ウォンであることが分かった。
一方、同じ条件を適用した時、米国、日本に投資した企業が受け取るインセンティブは、補助金と税制優遇を合わせてそれぞれ5兆5000億ウォン、8兆ウォンに達した。 韓国よりおよそ4.6倍、6.7倍も大きいわけだ。
このようなインセンティブ分析は日米韓3カ国の半導体関連法案を土台に算出した。 新規半導体ファブ(fab·半導体生産施設)投資金20兆ウォンのうち、敷地·建物に6兆ウォン、インフラ設備4兆ウォン、工程装備10兆ウォンが所要されると仮定した。 昨年末、韓国で終了した租税特例制限法による臨時投資税額控除は考慮しなかった。
現在、韓国の投資インセンティブは15%の設備投資税額控除のみ存在する。 半導体製造に欠かせないクリーンルームをはじめとするインフラ設備投資は控除対象にもならない。 このため、20兆ウォンの投資金のうちインフラ設備と敷地·建物費用10兆ウォンを除外しなければならない。 結局、半導体装備10兆ウォンの15%に当たる1兆5000億ウォン分の税制優遇だけが提供される。
これさえもさらに削られる。 農漁村特別税法によって租税減免を受ける内国法人は、租税節減額の20%相当額を農漁村特別税として納付しなければならない。 該当金額の3000億ウォンを除けば、最終インセンティブは1兆2000億ウォンに減る。 インセンティブ規模が総投資額の6%水準に過ぎないわけだ。
一方、米国は直接補助金（投資額の5~15%）と設備投資税額控除（投資額の25%）を合わせて5兆5000億ウォンに達する。 投資総額の27.5%をインセンティブとして受け取る。
日本では直接補助金（投資額の最大50%）だけで8兆ウォンに迫る。 これに日本政府が現在推進中の「戦略分野国内生産促進税制」の設備投資税額控除額（投資額の20%）2兆8000億ウォンまで合わせるとインセンティブは10兆8000億ウォンに増える。 投資額の半分以上（54%）がインセンティブだ。