キヤノンの「夢の半導体」が業界を激震！TSMCも追いつけない驚異の速度とは⁉
世界の半導体産業が今、静かに、しかし確実に変わろうとしています。仕掛けるのは、あのカメラメーカー、日本のキヤノン。常識を覆す「押す」技術、ナノインプリント（NIL）製造装置を開発しました。
高価で電力大食らいのEUV装置とは全く異なり、コストを最大40%減、消費電力も1/10に抑える可能性を秘めています。事実上ASMLが一強の市場に風穴を開け、半導体製造の「民主化」や環境負荷低減にも貢献。日本の技術が、再び世界の勢力図を塗り替えるかもしれません。この革新、一体どこまで通用するのか？未来への期待が高まります。
캐논의 「꿈의 반도체」가 업계를 격진!TSMC도 따라잡을 수 없는 경이의 속도란
세계의 반도체 산업이 지금, 조용하게, 그러나 확실히 바뀌려 하고 있습니다.거는 것은, 그 카메라 메이커, 일본의 캐논.상식을 뒤집는 「누른다」기술, 나노 흔적(NIL) 제조 장치를 개발했습니다.
고가이고 전력 대식등 있어의 EUV 장치와는 완전히 달라, 코스트를 최대40% 감, 소비 전력도1/10에 억제할 가능성을 은밀한이라고 있습니다.사실상 ASML가 한강의 시장에 바람 구멍을 열어 반도체 제조의 「민주화」나 환경 부하 저감에도 공헌.일본의 기술이, 다시 세계의 세력도를 바꿔바를지도 모릅니다.이 혁신, 도대체 어디까지 통용되는지?미래에의 기대가 높아집니다.
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