KJCLUB - DNPとキヤノンが27年実用化,1.4ナノ半導体、電力10分の1で製造

大日本印刷（DNP）は先端半導体を消費電力10分の1で生産する技術を開発した。キヤノンが手がける新手法の製造装置向けに、次世代の1.4ナノ（ナノは10億分の1）メートル品に対応する中核部材を2027年に量産する。人工知能（AI）半導体の製造コストが大幅に下がる可能性がある。

現状、最先端の半導体を量産するには世界でオランダのASMLホールディングだけが生産する極端紫外線（EUV）露光装置が必要だ...

https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC011DB0R01C25A2000000/?n_cid=SNSTW001&n_tw=1765224271

今の半導体製造技術はTSMC、サムチョン、Intelの順番なのか？

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DNP와 캐논이 27년 실용화, 1.4 나노 반도체, 전력 10분의 1으로 제조

다이니혼 인쇄(DNP)는 첨단 반도체를 소비 전력 10분의 1으로 생산하는 기술을 개발했다.캐논이 다루는 새로운 방법의 제조 장치 전용으로, 차세대의 1.4나노(나노는 10억분의 1) 미터품에 대응하는 핵심 부재를 2027년에 양산한다.인공지능(AI) 반도체의 제조 코스트가 큰폭으로 내릴 가능성이 있다.

현상, 최첨단의 반도체를 양산하려면 세계에서 네델란드의 ASML 홀딩만이 생산하는 극단 자외선(EUV) 노광 장치가 필요하다...

https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC011DB0R01C25A2000000/?n_cid=SNSTW001&n_tw=1765224271

지금의 반도체 제조 기술은 TSMC, 샘 정, Intel의 차례인가?

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