한국산 불산(고순도 불화수소)은 2019년 일본의 수출 규제 이후 단기간에 비약적으로 발전하여, 현재 삼성전자와 SK하이닉스 등 실제 반도체 양산 라인에 성공적으로 투입되고 있으며 수율 문제도 사실상 극복한 상태입니다.

궁금해하시는 안정성과 수율에 대해 핵심적인 팩트를 정리해 드립니다.

1. 정말로 반도체 생산에 문제가 없나?

결론부터 말씀드리면 "전혀 문제없습니다." 이미 2020년을 기점으로 한국 반도체 기업들은 국산 불산을 공정에 적용하기 시작했습니다.

성공적인 대체: 솔브레인(액체 불산), SK머티리얼즈(가스 불산) 등이 초고순도 제품 양산에 성공하면서, 일본산 의존도를 획기적으로 낮췄습니다.

품질 검증 완료: 반도체 세정(Cleaning) 및 식각(Etching) 공정에서 요구하는 **12N(99.9999999999%, 일명 "트웰브 나인")**급의 초고순도를 달성했습니다.

2. 수율(Yield)은 정말 그대로인가?

초기에는 국산으로 바꿀 때 수율이 떨어질까 봐 업계의 우려가 컸던 것이 사실입니다. 하지만 현재 상황은 다릅니다.

수율 안정화: 국산 제품 투입 초기에는 미세한 공정 튜닝(조정) 기간이 필요했지만, 현재는 기존 일본산을 쓸 때와 차이가 없는 수율을 기록하고 있습니다.

오히려 향상된 부분: 일부 공정에서는 국산 불산에 최적화된 첨가제 기술(예: 램테크놀러지 특허 등)이 적용되면서, 특정 미세공정의 수율이 오히려 개선되었다는 평가도 나옵니다.

리스크 관리: 삼성과 SK는 갑자기 모든 라인을 바꾸는 것이 아니라, 덜 민감한 공정부터 시작해 수개월간의 테스트를 거쳐 검증된 라인에만 국산을 투입하는 방식으로 리스크를 0%에 가깝게 관리했습니다.

2026년 현재, 불산뿐만 아니라 일본이 규제했던 **포토레지스트(PR)**와 플루오린 폴리이미드 역시 국산화의 길을 넘어 "공급망 내재화" 단계에 성공적으로 안착했습니다.

특히 불산보다 기술 장벽이 훨씬 높았던 포토레지스트 분야에서도 괄목할 만한 성과가 나오고 있습니다.

1. 포토레지스트 (감광액): "국산화 + 글로벌 협력의 투트랙"

포토레지스트는 반도체 회로를 그리는 핵심 재료로, 일본 의존도가 가장 높았던 품목입니다.

국산화 성공: 동진쎄미켐과 SK머티리얼즈가 불가능해 보였던 EUV(극자외선)용 포토레지스트 개발 및 양산 적용에 성공했습니다. 2018년 93%에 달했던 일본 의존도가 2024년에는 60%대까지 낮아졌습니다.

일본 기업의 국내 진출: 재미있는 반전은 세계 1위 업체인 일본의 JSR이 2026년부터 충북 청주 공장에서 **차세대 메탈 포토레지스트(MOR)**를 직접 생산하기 시작했다는 점입니다.

수율 및 안정성: 국내 기업들이 개발한 제품은 이미 삼성전자와 SK하이닉스의 양산 라인에서 검증을 마쳤으며, 일본산과 혼용하거나 대체해도 수율 저하가 없는 수준까지 올라왔습니다.

2. 플루오린 폴리이미드: "완전 자립 및 고도화"

폴더블폰 디스플레이 등에 쓰이는 이 소재는 3대 규제 품목 중 가장 먼저 국산화가 완료되었습니다.

완벽한 대체: 코오롱인더스트리, SKC, 경인양행 등이 대체품 개발에 성공하여 현재는 일본산 없이도 스마트폰과 디스플레이 생산에 아무런 지장이 없습니다.

기술 고도화: 단순히 흉내 내는 수준을 넘어, 투명도와 내구성을 더 높인 차세대 제품들로 시장을 주도하고 있습니다.