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三星 EUV 公正に国産素材使う
ライター
4 21Ca
作成日
2026-01-15 10:10:04
参照
202

三星, EUV 公正に国産 “ブランクマスク” 使う



三星電子が極子外線(EUV) 公正に国産 “ブランクマスク”を取り入れる. ブランクマスクは半導体回路を刻む時必須に使われるフォトマスクの原材料で, 三星電子が EUV 公正に国産マスクをかけることは初めてだ. その間海外寄り掛かったブランクマスクの国産化と供給網多変化が切迫した.




Abeが作った部品素材脱出領ですね





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삼성 EUV 공정에 국산 소재 쓴다

삼성, EUV 공정에 국산 "블랭크 마스크" 쓴다



  삼성전자가 극자외선(EUV) 공정에 국산 "블랭크 마스크"를 도입한다. 블랭크 마스크는 반도체 회로를 새길 때 필수적으로 사용되는 포토마스크의 원재료로, 삼성전자가 EUV 공정에 국산 마스크를 쓰는 건 처음이다. 그동안 해외 의존했던 블랭크 마스크의 국산화와 공급망 다변화가 임박했다.




  아베가 만든 부품 소재 탈출령이군요




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