日本企業（特にキヤノン、ニコン、三菱ケミカルなど）は2025年12月中旬頃から、中国向けの高性能フォトレジスト（主にArFおよびEUVタイプ）の供給を大幅に制限している。技術サポートチームの撤退や、通常のフォトレジストであっても納期が従来の2〜3ヶ月から4〜6ヶ月以上に延長される事態が発生している。
日本政府はこの措置を公に宣言せず、「非公式・企業主導」の形で実行することで、直接的な外交衝突を回避する戦略を取っているとみられる。これは、中国の半導体産業発展を抑制するための意図的な動きと広く認識されている。
中国で造れるフォトレジストでは１０ナノ以下の半導体は造れなくなります。
今後状態によりその他の半導体素材の輸出を止めて行く可能性が出てきましたね。
これで中国の半導体産業に深刻なダメージが起きることになりますね。
日本は黙って輸出申請を止めてしまいますからｗｗｗｗ
일본 기업(특히 캐논, 니콘, 미츠비시 케미컬등)은 2025년 12월 중순무렵부터, 중국용의 고성능 포토레지스트(photoresist)(주로 ArF 및 EUV 타입)의 공급을 큰폭으로 제한하고 있다.기술 서포트 팀의 철퇴나, 통상의 포토레지스트(photoresist)여도 납기가 종래의 2~3개월부터 4~6개월 이상으로 연장되는 사태가 발생하고 있다.
일본 정부는 이 조치를 공에 선언하지 않고, 「비공식·기업주도」의 형태로 실행하는 것으로, 직접적인 외교 충돌을 회피하는 전략을 취하고 있다고 보여진다.이것은, 중국의 반도체 산업 발전을 억제하기 위한 의도적인 움직임과 넓게 인식되고 있다.
중국에서 만들 수 있는포토레지스트(photoresist)에서는 10 나노 이하의 반도체는 만들 수 없게 됩니다.
향후 상태에 의해 그 외의 반도체 소재의 수출을 멈추어서 갈 가능성이 나왔어요.
이것으로 중국의 반도체 산업에 심각한 데미지가 일어나게 되는군요.