2026年現在, 大韓民国は半導体製造の核心素材であるブランクマスク(Blank Mask)分野で日本依存度を画期的に低めて完全な技術自立化段階に進入しています. [1, 2]
主要国産化現況は次の通りです.
1. ハイエンド級(ArF) ブランクマスク梁山成功
- エスエンエステック(S&STech):過去日本企業(号よ, ウルコトなど)が独占した仏画アルゴン(ArF) 及び ArF イモゾン(Immersion) 公正用ハイエンドブランクマスク国産化に成功して三星電子と SKハイニクスに供給しています. [1, 3]
- ドングジンセミケム:フォトレジスト技術力を土台でブランクマスク市場に進出して汎用製品から特殊マスクまでラインナップを拡大しています. [2]
2. EUV(極子外線) ブランクマスク国産化本格化
次世代微細公正である EUV用ブランクマスクは一番難易度が高い分野です.
- 梁山可視化:エスエンエステックは 2024‾2025年を基点で EUV用ブランクマスク梁山設備を構築したし, 最尖端パウンドリ公正に適用のための最終品質認証(Qual) 及び供給拡大を進行の中です. [3, 4]
- ペルリクル(Pellicle) 併行開発:マスク汚染を防止する EUV ペルリクルも一緒に国産化してブランクマスクとシナジーを出しています.
3. 企業の協力 (容認半導体クラスタ)
- 供給網安定化:政府の素材・部品・装備(小富場) 特化団地支援政策を通じて研究開発(R&D)から実証テストまで国内でワン・ストップに成り立っています. [2, 5]
- 品質競争力:2026年基準国産ブランクマスクは価格競争力だけではなく欠陷率(Defect)と透過率面で日本製品と対等な水準に到逹したことで評価を受けます. [3, 5]
結論:汎用製品はもう国産化が完了したし, EUV 専用ブランクマスクの国産化シェアが本格的に上昇してあります. [1, 4]
반도체 블랭크 마스크 국산화 완료
2026년 현재, 대한민국은 반도체 제조의 핵심 소재인 블랭크 마스크(Blank Mask) 분야에서 일본 의존도를 획기적으로 낮추며 완전한 기술 자립화 단계에 진입해 있습니다. [1, 2]
주요 국산화 현황은 다음과 같습니다.
1. 하이엔드급(ArF) 블랭크 마스크 양산 성공
- 에스앤에스텍(S&STech): 과거 일본 기업(호야, 울코트 등)이 독점하던 불화아르곤(ArF) 및 ArF 이머전(Immersion) 공정용 하이엔드 블랭크 마스크 국산화에 성공하여 삼성전자와 SK하이닉스에 공급하고 있습니다. [1, 3]
- 동진쎄미켐: 포토레지스트 기술력을 바탕으로 블랭크 마스크 시장에 진출하여 범용 제품부터 특수 마스크까지 라인업을 확대하고 있습니다. [2]
2. EUV(극자외선) 블랭크 마스크 국산화 본격화
차세대 미세 공정인 EUV용 블랭크 마스크는 가장 난이도가 높은 분야입니다.
- 양산 가시화: 에스앤에스텍은 2024~2025년을 기점으로 EUV용 블랭크 마스크 양산 설비를 구축했으며, 최첨단 파운드리 공정에 적용을 위한 최종 품질 인증(Qual) 및 공급 확대를 진행 중입니다. [3, 4]
- 펠리클(Pellicle) 병행 개발: 마스크 오염을 방지하는 EUV 펠리클 또한 함께 국산화하여 블랭크 마스크와 시너지를 내고 있습니다.
3. 기업의 협력 (용인 반도체 클러스터)
- 공급망 안정화: 정부의 소재·부품·장비(소부장) 특화단지 지원 정책을 통해 연구 개발(R&D)부터 실증 테스트까지 국내에서 원스톱으로 이루어지고 있습니다. [2, 5]
- 품질 경쟁력: 2026년 기준 국산 블랭크 마스크는 가격 경쟁력뿐만 아니라 결함률(Defect)과 투과율 면에서 일본 제품과 대등한 수준에 도달한 것으로 평가받습니다. [3, 5]
결론: 범용 제품은 이미 국산화가 완료되었으며, EUV 전용 블랭크 마스크의 국산화 점유율이 본격적으로 상승하고 있습니다. [1, 4]