캐논의 「꿈의 반도체」가 업계를 격진!TSMC도 따라잡을 수 없는 경이의 속도란
세계의 반도체 산업이 지금, 조용하게, 그러나 확실히 바뀌려 하고 있습니다.거는 것은, 그 카메라 메이커, 일본의 캐논.상식을 뒤집는 「누른다」기술, 나노 흔적(NIL) 제조 장치를 개발했습니다.
고가이고 전력 대식등 있어의 EUV 장치와는 완전히 달라, 코스트를 최대40% 감, 소비 전력도1/10에 억제할 가능성을 은밀한이라고 있습니다.사실상 ASML가 한강의 시장에 바람 구멍을 열어 반도체 제조의 「민주화」나 환경 부하 저감에도 공헌.일본의 기술이, 다시 세계의 세력도를 바꿔바를지도 모릅니다.이 혁신, 도대체 어디까지 통용되는지?미래에의 기대가 높아집니다.
キヤノンの「夢の半導体」が業界を激震！TSMCも追いつけない驚異の速度とは⁉
世界の半導体産業が今、静かに、しかし確実に変わろうとしています。仕掛けるのは、あのカメラメーカー、日本のキヤノン。常識を覆す「押す」技術、ナノインプリント（NIL）製造装置を開発しました。
高価で電力大食らいのEUV装置とは全く異なり、コストを最大40%減、消費電力も1/10に抑える可能性を秘めています。事実上ASMLが一強の市場に風穴を開け、半導体製造の「民主化」や環境負荷低減にも貢献。日本の技術が、再び世界の勢力図を塗り替えるかもしれません。この革新、一体どこまで通用するのか？未来への期待が高まります。
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