ラピダスは２２年８月の設立以降、政府支援を受けながら急ピッチで工場を建設し、立ち上げてきた。米ＩＢＭから技術供与を受け、同社のニューヨーク州の研究所に技術者を派遣し習得を促進。２４年１２月には国内初となる蘭ＡＳＭＬ製の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置を搬入し、４月に試作ラインを稼働した。

キヤノン、半導体の次世代製造装置　米団体に初出荷

　キヤノンは26日、半導体の次世代製造装置を初出荷すると発表した。先端半導体の開発を目指す米国の官民組織に納める。装置は「ナノインプリント」と呼ばれる独自技術を使ってウエハー上に回路パターンを描く。光を使う従来の手法に比べて消費電力やコストを抑えられるのが強みで、普及拡大を狙う。

韓国の半導体製造は何処の国の露光装置を使ってるの？^^

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어쨌든 ASML

라피다스는 22년 8월의 설립 이후, 정부 지원을 받으면서 급피치에 공장을 건설해, 시작해 왔다.미 IBM로부터 기술공여를 받아 동사의 뉴욕주의 연구소에 기술자를 파견해 습득을 촉진.24년 12월에는 국내 최초가 되는난초 ASML제의 극단 자외선(EUV) 노광 장치를 반입해, 4월에 시작 라인을 가동했다.

캐논, 반도체의 차세대 제조 장치미 단체에 초출짐

　캐논은 26일, 반도체의 차세대 제조 장치를 초출짐 한다고 발표했다.첨단 반도체의 개발을 목표로 하는 미국의 관민 조직에 납입한다.장치는 「나노 흔적」이라고 불리는 독자 기술을 사용해 웨퍼상에 회로 패턴을 그린다.빛을 사용하는 종래의 수법에 비해 소비 전력이나 코스트를 억제되는것이 강점에서, 보급 확대를 노린다.

한국의 반도체 제조는 어디의 나라의 노광 장치를 사용해?^^

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