日本依存脱却へ、SKハイニックスが
フォトレジスト国産化に着手
＝韓国ネット「良い流れ」「簡単じゃない」
1: 昆虫図鑑 ★ 2025/12/09(火) 18:47:11.55 ID:vq92J56p
2025年12月7日、韓国メディア・電子新聞は、韓国の半導体大手SKハイニックスが、これまで日本企業に依存してきた先端半導体材料「EUV用フォトレジスト」の国産化に本格的に乗り出したと報じた。
記事によると、SKハイニックスは韓国の化学素材メーカー・東進（トンジン）セミケムと協力し、EUV露光工程に使用される高性能フォトレジストの共同開発を開始した。これまで同社は、日本のJSRや東京応化工業が供給する製品にほぼ100％依存してきたが、単なる代替ではなく「日本製を上回る性能」を目標にしているという。
EUV用フォトレジストは、EUV露光設備で半導体ウエハーに微細回路を形成する際に不可欠な材料である。EUVは10ナノメートル前後の超微細工程に必須とされる露光技術だが、EUV露光装置はオランダのASMLが独占供給しており、装置1台当たりの価格は2000億ウォン（約212億円）に達するとされる。
記事は、「今回の開発の狙いは、露光時間の短縮と生産性の向上にある」と指摘。フォトレジストの感度を高めることで、同じ装置でもより多くの半導体を生産できるようになるという。
SKハイニックスは23年にも系列会社を通じてEUV用フォトレジストの国産化に挑んだが、当時の製品は低仕様にとどまり、最先端工程に使われる高性能品は依然として日本依存が続いていた。また、DRAM分野ではEUV工程の使用回数が増加しており、重要性が一層高まっているという。
記事は関係者の「素材会社をはじめとするさまざまな企業と生産性改善のための協力を続けている」との声を紹介。「素材開発には相当時間がかかるうえに、EUV用フォトレジストは進入障壁が高い。SKハイニックスと東進セミケムの協力がどのような結果を生むか予想するのは難しいが、商用化に成功した場合には、韓国素材産業の競争力を一段階引き上げる契機になり得る」と伝えた。
韓国のネットユーザーからは、「うまくいけば韓国半導体の地位はさらに上がる」「日本依存から抜け出そうとするのは良い流れだと思う」「失敗しても経験は残るから、挑戦する価値はある」「今こそ素材・装備の自立を本気でやるべきだ」「サムスンとSKハイニックスが本気出したら、日本も緊張するはず」などの声が上がった。
また、「韓国で国産化できたら本当にすごいけど、簡単にはいかないだろうな」「東進セミケムってそんな技術力あったんだ。知らなかった」「どうせ量産まで行けずに終わる気がする」「技術格差はまだ大きい」「ASML頼みなのに、どこまで自立できるのか疑問」などの声も見られた。（翻訳・編集/樋口）
https://www.recordchina.co.jp/b965802-s39-c20-d0202.html
2: 神酒＠酔っ払い ◆Beer/GOl3A 2025/12/09(火) 18:50:12.77 ID:3rSTvUL5
何回目だ？
3: <丶｀∀´>（´・ω・｀）（｀ハ´ ）さん 2025/12/09(火) 18:50:19.66 ID:OACzWEpL
＞韓国のネットユーザーからは、「日本依存から抜け出そうとするのは良い流れだと思う」などの声が上がった。
なんか、はじめて日韓で意見があったな。
なんか、はじめて日韓で意見があったな。
5: <丶｀∀´>（´・ω・｀）（｀ハ´ ）さん 2025/12/09(火) 18:53:20.26 ID:AxxRkXoy
定期的にしてるよねこれ
何回目だよ
何回目だよ
한국·SK가 레지스터 국산화에 착수
기사에 의하면, SK하이 닉스는 한국의 화학 소재 메이커·히가시 스스무(톤 진) 세미 화학 병기와 협력해, EUV 노광 공정에 사용되는 고성능 포토레지스트(photoresist)의 공동 개발을 개시했다.지금까지 동사는, 일본의 JSR나 토쿄 오카 공업이 공급하는 제품에 거의 100%의존해 왔지만, 단순한 대체는 아니고 「일본제를 웃도는 성능」을 목표로 하고 있다고 한다.
기사는, 「이번 개발의 목적은, 노광 시간의 단축과 생산성의 향상에 있다」라고 지적.포토레지스트(photoresist)의 감도를 높이는 것으로, 같은 장치에서도 보다 많은 반도체를 생산할 수 있게 된다고 한다.
SK하이 닉스는 23년에도 계열회사를 통해서 EUV용 포토레지스트(photoresist)의 국산화에 도전했지만, 당시의 제품은 저사양에 머물러, 최첨단 공정에 사용되는 고성능품은 여전히 일본 의존이 계속 되고 있었다.또, DRAM 분야에서는 EUV 공정의 사용 회수가 증가하고 있어, 중요성이 한층 높아지고 있다고 한다.
기사는 관계자의 「소재 회사를 시작으로 하는 다양한 기업과 생산성 개선을 위한 협력을 계속하고 있다」라고의 소리를 소개.「소재 개발에는 상당히 시간이 걸리는데다, EUV용 포토레지스트(photoresist)는 진입 장벽이 비싸다.SK하이 닉스와 히가시 스스무 세미 화학 병기의 협력이 어떠한 결과를 낳을까 예상하는 것은 어렵지만, 상용화에 성공했을 경우에는, 한국 소재 산업의 경쟁력을 일단층 끌어올리는 계기로 될 수 있다」라고 전했다.
한국의 넷 유저에게서는,「잘 되면 한국 반도체의 지위는 한층 더 오른다」「일본 의존으로부터 빠져 나가려고 하는 것은 좋은 흐름이라고 생각한다」 「실패해도 경험은 남기 때문에, 도전하는 가치는 있다」 「이제야말로 소재·장비의 자립을 진심으로 해야 한다」「삼성과 SK하이 닉스가 진심 내면, 일본도 긴장할 것」등의 소리가 높아졌다.
또, 「한국에서 국산화할 수 있으면 정말로 대단히하지만, 간단하지는 않을 것이다」 「히가시 스스무 세미 화학 병기는 그런 기술력 있었다.몰랐다」 「어차피 양산까지 &지 못하고 끝날 것 같다」 「기술 격차는 아직 크다」 「ASML 부탁인데, 어디까지 자립할 수 있는지 의문」등의 소리도 볼 수 있었다.(번역·편집/히구치)
https://www.recordchina.co.jp/b965802-s39-c20-d0202.html
일본 의존 탈각에, SK하이 닉스가
포토레지스트(photoresist) 국산화에 착수
=한국 넷 「좋은 흐름」 「간단하지 않다」
1: 곤충 도감 ★ 2025/12/09(화) 18:47:11.55 ID:vq92J56p
2025년 12월 7일, 한국 미디어·전자 신문은, 한국의 반도체 대기업 SK하이 닉스가, 지금까지 일본 기업에 의존해 온 첨단 반도체 재료 「EUV용 포토레지스트(photoresist)」의 국산화에 본격적으로 나섰다고 알렸다.
기사에 의하면, SK하이 닉스는 한국의 화학 소재 메이커·히가시 스스무(톤 진) 세미 화학 병기와 협력해, EUV 노광 공정에 사용되는 고성능 포토레지스트(photoresist)의 공동 개발을 개시했다.지금까지 동사는, 일본의 JSR나 토쿄 오카 공업이 공급하는 제품에 거의 100%의존해 왔지만, 단순한 대체는 아니고 「일본제를 웃도는 성능」을 목표로 하고 있다고 한다.
기사는, 「이번 개발의 목적은, 노광 시간의 단축과 생산성의 향상에 있다」라고 지적.포토레지스트(photoresist)의 감도를 높이는 것으로, 같은 장치에서도 보다 많은 반도체를 생산할 수 있게 된다고 한다.
SK하이 닉스는 23년에도 계열회사를 통해서 EUV용 포토레지스트(photoresist)의 국산화에 도전했지만, 당시의 제품은 저사양에 머물러, 최첨단 공정에 사용되는 고성능품은 여전히 일본 의존이 계속 되고 있었다.또, DRAM 분야에서는 EUV 공정의 사용 회수가 증가하고 있어, 중요성이 한층 높아지고 있다고 한다.
기사는 관계자의 「소재 회사를 시작으로 하는 다양한 기업과 생산성 개선을 위한 협력을 계속하고 있다」라고의 소리를 소개.「소재 개발에는 상당히 시간이 걸리는데다, EUV용 포토레지스트(photoresist)는 진입 장벽이 비싸다.SK하이 닉스와 히가시 스스무 세미 화학 병기의 협력이 어떠한 결과를 낳을까 예상하는 것은 어렵지만, 상용화에 성공했을 경우에는, 한국 소재 산업의 경쟁력을 일단층 끌어올리는 계기로 될 수 있다」라고 전했다.
한국의 넷 유저에게서는,「잘 되면 한국 반도체의 지위는 한층 더 오른다」「일본 의존으로부터 빠져 나가려고 하는 것은 좋은 흐름이라고 생각한다」 「실패해도 경험은 남기 때문에, 도전하는 가치는 있다」 「이제야말로 소재·장비의 자립을 진심으로 해야 한다」「삼성과 SK하이 닉스가 진심 내면, 일본도 긴장할 것」등의 소리가 높아졌다.
또, 「한국에서 국산화할 수 있으면 정말로 대단히하지만, 간단하지는 않을 것이다」 「히가시 스스무 세미 화학 병기는 그런 기술력 있었다.몰랐다」 「어차피 양산까지 &지 못하고 끝날 것 같다」 「기술 격차는 아직 크다」 「ASML 부탁인데, 어디까지 자립할 수 있는지 의문」등의 소리도 볼 수 있었다.(번역·편집/히구치)
https://www.recordchina.co.jp/b965802-s39-c20-d0202.html
2: 제주＠술주정꾼 ◆Beer/GOl3A 2025/12/09(화) 18:50:12.77 ID:3rSTvUL5
몇회눈이야?
3: <주｀∀′>(′·ω·｀)(｀하′ )씨 2025/12/09(화) 18:50:19.66 ID:OACzWEpL
＞한국의 넷 유저에게서는, 「일본 의존으로부터 빠져 나가려고 하는 것은 좋은 흐름이라고 생각한다」등의 소리가 높아졌다.
어쩐지, 처음 일한에서 의견이 있었군.
어쩐지, 처음 일한에서 의견이 있었군.
5: <주｀∀′>(′·ω·｀)(｀하′ )씨 2025/12/09(화) 18:53:20.26 ID:AxxRkXoy
정기적으로 하고 있지 이것
몇회눈이야
몇회눈이야